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        • 揭秘遠程微波PECVD系統簡介

          點擊次數:65 發布時間:2022-08-31

          Nano-Master的遠程微波等離子體化學氣相沉積(PECVD)系統應用范圍廣泛,包含:

          基片或粉體的等離子誘導表面改性

          等離子清洗

          粉體或顆粒表面等離子聚合

          SiO2,Si3N4DLC及其他薄膜

          CNT和石墨烯的選擇性生長

          單晶或多晶金剛石生長

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          微波模塊:NANO-MASTER高質量長壽命遠程微波源,頻率為2.45GH,微波發射功率可以自主調節,微波反射功率可通過調節降低至發射功率的千分之一以內。遠程微波源,可實現無損傷缺陷的沉積或生長。

          設備腔體水冷側壁,確保在高溫工藝下腔體外表面溫度控制在60℃內;在高溫工藝進行過程中,等離子體被束縛在有限的體積內,不會對腔體造成刻蝕。

          樣品臺:可自動加熱到最高1200℃,PID精確控制,精度±1℃,跟微波電源的加熱獨立。高溫工藝下可持續旋轉,主動冷卻。具有自動升降功能,可針對自動Load Unload下降樣品臺便于片托自動取出。

          溫度模塊:通過系統參數實現襯底溫度精確控制,在穩定的工藝過程中溫度浮動不超過±10℃。利用雙波長高溫計實現對襯底的非接觸式溫度測量;樣品臺內部通過熱電偶測量。

          氣體控制:根據需求最多可配置8路工藝氣體,配備吹掃氣路,利用氮氣或是氬氣對管路吹掃。淋浴頭和氣體環均勻設計,使得氣體在高溫工作狀態下成分均一,流速穩定,不會對襯底造成擾動。

          真空模塊:腔室的極限真空度可達1*10-5Pa

          樣品傳送模塊:系統可以支持自動Load Lock實現計算機控制的自動進樣和出片

          控制模塊:配備計算機控制系統,詳細記錄工藝過程中各項參數。具備安全互鎖功能及4級密碼授權訪問控制。



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          以遠程微波PECVD系統沉積金剛石薄膜為例,從甲烷、氫氣或氬氣的氣體混合物中將多晶金剛石薄膜沉積到襯底上。沉積過程中的基片溫度通常為800~900°C,通過雙波長高溫計測量。甲烷、氫氣和氬氣的濃度、功率和壓力值可以改變,以產生各種金剛石膜紋理。因金剛石的許多特性:如化學惰性和穩定性,高導熱性,高聲速,高斷裂強度,疏水性,耐磨性,生物惰性,其表面可功能化,并涂覆保形性等,使其成為許多應用的選擇。應用包括MEMS/NEMS器件、摩擦學(機械和生物部件涂層)、熱(散熱器/擴散器)、切割工具、輻射傳感器(電離輻射探測器/劑量計)、電化學應用(生化傳感器)、光學(紅外窗口、透鏡、X射線窗口)和離子束剝離箔。

           

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