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        • 全自動磁控濺射系統的設備特點和主要應用
          點擊次數:271 發布時間:2022-05-10
           
            全自動磁控濺射系統帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到6"旋轉平臺,支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7Torr,15分鐘內可以達到10-6Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
           
            全自動磁控濺射系統的產品特點:
           
            不銹鋼腔體
           
            260l/s或350l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
           
            13.56MHz,300-600WRF射頻電源以及1KWDC直流電源
           
            晶振夾具具有的<1?的厚度分辨率
           
            帶觀察視窗的腔門易于上下載片
           
            基于LabView軟件的PC計算機控制
           
            帶密碼保護功能的多級訪問控制
           
            *的安全聯鎖功能
           
            預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
           
            選配項:
           
            RF、DC濺射
           
            熱蒸鍍能力
           
            RF或DC偏壓(1000V)
           
            樣品臺可加熱到700°C
           
            膜厚監測儀
           
            基片的RF射頻等離子清洗
           
            全自動磁控濺射系統的應用:
           
            晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆,光學以及ITO涂覆,帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆。
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