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        • NOC-4000進口光學鍍膜機:NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統提供先進的技術,在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光,然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進行表面涂覆,整個過程不間斷真空。系統的設計也可以支持其中任一個腔體的單獨使用,同時具備各自的自動上/下載片功能。
        • 產品型號:NSC-4000(M)

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          NSC-4000(M)磁控濺射系統:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到到8“旋轉平臺,支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
        • NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12” 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源,樣品臺通過RF或脈沖DC產生偏壓??芍С旨訜岷屠鋮s.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵,真空可低至10-7 torr。標準配置含1路惰性氣體、3路活性氣體和4個MFC。
        • NEE-4000(A)全自動電子束蒸發系統:NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔配置,樣品臺位于主腔體,二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預真空鎖,使得電子束源腔體保持真空的情況下,通過主腔放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。自動裝/卸載基片可通過第三方的預真空鎖實現。通過PC計算機控制,系統可以提供多電子束源的共蒸發能力,以及對組分或組分梯度進行編程的能力。
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