<delect id="z7vd1"><address id="z7vd1"><delect id="z7vd1"></delect></address></delect>
<var id="z7vd1"></var>
    <delect id="z7vd1"><address id="z7vd1"></address></delect>
    <cite id="z7vd1"></cite>
    <mark id="z7vd1"></mark>

        • 產品名稱:RIBE反應離子束刻蝕

          產品型號:NIE-4000(R)

          產品報價:

          產品特點:NIE-4000(R)RIBE反應離子束刻蝕:如銅和金等金屬不含揮發性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。

          NIE-4000(R)RIBE反應離子束刻蝕的詳細資料:

          RIBE反應離子束刻蝕系統

          NIE-4000(R)RIBE反應離子束刻蝕產品概述:如銅和金等金屬不含揮發性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。

          NANO-MASTER技術已經證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時,旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。

          NIE-4000(R)產品特點:

          • 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
          • 16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動不銹鋼遮板
          • 離子束中和器
          • 氬氣MFC
          • 6”水冷樣品臺
          • 晶片旋轉速度3、10RPM,真空步進電機
          • 步進電機控制晶圓片傾斜
          • 自動/手動上下載晶圓片
          • 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min
          • 6”范圍內,刻蝕均勻度+/-3%
          • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內可達到10-6Torr級別(配套500 l/s渦輪分子泵)
          • 配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達8x10-8Torr
          • 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
          • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
          • 菜單驅動,4級密碼訪問保護
          • 完整的安全聯鎖

           

           如果你對NIE-4000(R)RIBE反應離子束刻蝕感興趣,想了解更詳細的產品信息,填寫下表直接與廠家聯系:

          留言框

          • 產品:

          • 您的單位:

          • 您的姓名:

          • 聯系電話:

          • 常用郵箱:

          • 省份:

          • 詳細地址:

          • 補充說明:

          • 驗證碼:

            請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7
           相關同類產品:
          NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統  NIM-4000(A)全自動離子銑刻蝕  NIE-4000(A)全自動IBE離子束刻蝕  NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕  NIE-3000IBE離子束刻蝕  NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕  NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕  NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕  NIE-4000IBE離子束刻蝕系統 
        久久国产乱子伦精品免费女,免费A片欧美片在线观看,国产三级在线观看播放,国内老熟妇乱子伦视频