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        • 產品名稱:磁控濺射系統

          產品型號:NSC-4000(M)

          產品報價:

          產品特點:NSC-4000(M)磁控濺射系統:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到到8“旋轉平臺,支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

          NSC-4000(M)磁控濺射系統的詳細資料:

          磁控濺射技術

          NSC-4000(M)磁控濺射系統概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達8"旋轉平臺,可支持4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

          NSC-4000帶有13”鋁質腔體,42”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,我們提供不銹鋼腔體,500 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。

          NSC-4000(M)磁控濺射系統產品特點:

          • 不銹鋼,鋁質腔體
          • 260500 l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
          • 13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
          • 晶振夾具具有的<1 Å的厚度分辨率
          • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
          • 基于LabView軟件的PC計算機控制
          • 帶密碼保護功能的多級訪問控制
          • 完全的安全聯鎖功能

          NSC-4000(M)選配項:

          • 不銹鋼腔體
          • 熱蒸鍍能力
          • RF、DC濺射
          • RFDC偏壓(1000V
          • 樣品臺可加熱到700°C
          • 膜厚監測儀
          • 基片的RF射頻等離子清洗
          • 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

          NSC-4000(M)應用:

          • 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
          • 光學以及ITO涂覆
          • 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
          • RF射頻等離子放電的反應濺射

           如果你對NSC-4000(M)磁控濺射系統感興趣,想了解更詳細的產品信息,填寫下表直接與廠家聯系:

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