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        • 產品名稱:進口晶圓清洗機

          產品型號:SWC系列/LSC系列

          產品報價:

          產品特點:進口晶圓清洗機:Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

          SWC系列/LSC系列進口晶圓清洗機的詳細資料:

          進口晶圓清洗機概述:兆聲和清洗技術的發展,對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。

          NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統,用于先進的無損兆聲清洗??梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到優化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。

          SWC系統提供了可控的化學試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統,可以*節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力,提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。

          進口晶圓清洗機應用:

          • 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
          • Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
          • CMP處理后的晶圓片清洗
          • 晶圓框架上的切粒芯片清洗
          • 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
          • 帶保護膜的分劃版清洗
          • 掩模版空白部位或接觸部位清洗
          • X射線及極紫外掩模版清洗
          • 光學鏡頭清洗
          • ITO涂覆的顯示面板清洗
          • 兆聲輔助的剝離工
          • 硅片和藍寶石片清洗
          • 帶晶圓框架的芯片清洗
          • FSI清洗
          • 硅片和藍寶石片清洗
          • 帶晶圓框架的芯片清洗
          • 顯示平板,ITO涂層顯示屏清洗
          • 帶圖案及無圖案掩模版清洗
          • 帶保護膜分劃板的背面清洗
          • 薄膜結構膠粘劑清洗
          • 光刻膠涂覆/剝離和Piranha去膠
          • 背面多晶去除
          • 顯影和其他刻蝕應用

          進口晶圓清洗機選配項:

          • 掩模版或晶圓片夾具
          • PVA軟毛刷清洗(100RPM)
          • 化學試劑清洗(CDU)
          • 氮氣離子發生器
          • CMP后的刷子清洗(可高達400RPM)
          • 背面去離子水清洗和干燥
          • CO2注入,帶DIW電阻率監測單元
          • 用于DIW或hua'xue'shi'ji化學試劑的內嵌式加熱器
          • 化學液補滿傳感器
          • FM4910材料
          • 25片casssette機械手自動上下片

          進口晶圓清洗機型號:

          • SWC-3000臺式單晶圓/掩模版清洗系統
          • SWC-4000立柜式單晶圓/掩模版清洗系統
          • SWC-5000帶25片cassette機械手自動清洗
          • LSC-4000大基片清洗機
          • LSC-5000全自動清洗系統

           如果你對SWC系列/LSC系列進口晶圓清洗機感興趣,想了解更詳細的產品信息,填寫下表直接與廠家聯系:

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